爱游戏该双工件台的精度为1.8nm，高速运行状态下精度为2nm，可以说，华卓精科与清华团队研发的双工件台，不仅打破了长期以来ASML对双工件台的垄断局势，更成了国产EUV光刻机的最后一块儿拼图。

　　中美科技竞争的不断升温，芯片已经成了众人热议的话题爱游戏。我国虽然是芯片消耗大国，并且芯片研发实力也能跻身世界第一梯队，但芯片上游环节一直都存在着短板。而之所以中兴事件、华为事件接连上演，其根本原因就是缺少制造芯片的核心设备—光刻机。

　　其实我国在上世纪六七十年代就开始发展半导体，但芯片制造是一个烧钱的行业，中国当时的经济实力很难对这一行业不断攻坚，这也让西方在这一领域占领了高地。但随着全球芯片紧缺，美国的不断干扰，我国经济实力在不断攀升，确实是时候攻坚芯片制造难题了。

　　众所周知，EUV光刻机是世界上最精密的设备之一，一台光刻机重达数十吨，零部件10万多个，但是EUV光刻机最为核心的零部件有3个，分别是EUV光源、光学镜头和双工件台，这是制造EUV光刻机无法规避的核心零部件。就拿ASML来说，EUV光刻机来自于德国光学巨头蔡司，EUV光源来自自家收购的供应商Cymer，双工件台更是被ASML一手垄断。

　　不过，国家对半导体产业的大力扶持之下，我国的科研机构及企业在光刻机领域突破了一个又一个的难题，甚至EUV领域也是硕果累累。6月底，央视报道，国产首台高能同步辐射光源安装完成，并且成功启动运行测试，同时，中科科仪旗下的中科科美也宣布，其研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也正式投入使用。

　　要知道，中科科美的镀膜装置，可以实现0.1nm的精度，不仅满足了我国在先进光学领域的空白，同时还可以满足对EUV镜头的制备工作，结合上高能同步辐射光源，这就解决了EUV光刻机的光源及镜头这两大问题，那剩下的双工件台呢？

　　所谓双工件台，就是光刻机内两个承载晶圆的工作台，两个工作台相互独立同时运行，一个工件台做曝光前的扫描、测量、对准等准备工作，另一台做晶圆曝光，而高端EUV光刻机则对工作台的精度要求非常高，这样才能有效地提升产能。可以说双工件台是芯片行业的技术壁垒，这也是制造难度最大的核心零部件，并且长期以来一直被ASML一加所垄断。

　　但是，我国在双工件台领域也获得了重大突破。据报道，北京的华卓精科与清华团队推出的双工件台，不仅在技术、生产方面实现了国产化，并且在精度上、技术水平方面已经达到了ASML的水平爱游戏，据悉，该双工件台的精度为1.8nm，高速运行状态下精度为2nm，可以说，华卓精科与清华团队研发的双工件台爱游戏，不仅打破了长期以来ASML对双工件台的垄断局势，更成了国产EUV光刻机的最后一块儿拼图。

　　值得注意的是，国产光刻机巨头上海微电子的唯一工件台供应商就是华卓精科，而上海微电子的28nmDUV光刻机年底将实现量产，双方强强联合，相信多次曝光后有能力实现7nm工艺芯片的量产，毕竟台积电在这方面已经尝试过。

　　值得注意的是，ASML光刻机核心零部件采用了美国、德国等国家的技术，而我国光刻机均采用了国产技术，而在成本方面，ASML无法控制，但我国可以，并且我国还有他国无法比拟的强大制造能力，所以说，技术封锁就是搬起石头砸自己的脚！